探討顱內電極長程記錄在顳葉癲癇定位、定側中的應用,評價其臨床價值。方法:60例經顱內電極定位的顳葉癲癇患者,電極類型採用硬膜下條狀、柵狀以及深部電極,手術方式包括顱骨鑽孔電極植入、立體定向深部電極植入和骨瓣開顱電極植入。結果:額-顳皮層電極植入34例,額-顳前-顳枕交界電極植入7例,雙顳皮層電極植入7例,深部電極聯合顳葉皮層電極植入7例,顳前-顳枕交界電極植入3例,條狀電極聯合柵狀電極植入2例。手術方式包括前顳葉切除術50例,聯合額葉致癇灶切除7例,聯合胼胝體切開1例,顳後枕新皮層癇灶切除聯合海馬杏仁核切除2例。結論:顱內電極長程記錄是一種有效的檢查方法和重要的定位手段,可應用於無創評估方法難以定位、定側的顳葉癲癇。
顳葉癲癇(TLE)是癲癇的一類較常見類型,其手術的有效性已得到公認,對致癇灶位置和側別的判定是手術治療的前提和關鍵。顱內電極長程視頻腦電監測(IVEEG)是癲癇外科重要的術前評估方法,在致癇灶的定位、定側中具有不可替代的價值[1-3],我們將IVEEG用於無創評估方法難以定位、定側的顳葉癲癇,現將應用體會總結報道如下。
對象 和 方 法
1. 一般資料:2006年1月至2010年10月,北京天壇醫院行IVEEG 156例患者,確定為顳葉癲癇或雖為多灶性癲癇但以顳葉為主的癲癇60例(以手術為準)。其中男35例,女25例;年齡9~50歲,平均(24.5±9.7)歲。病史1~40年,平均(13.1±8.6)年。顱內電極放置於左側13例,右側16例,雙側31例。發作形式包括簡單部分性發作、複雜部分性發作、複雜部分性發作繼發全身性發作、全身性發作或同時有多種發作形式。術前所有患者行1~2次或2次以上長程頭皮視頻腦電圖(sVEEG)檢查。24例患者MRI未見異常,36例患者MRI有陽性發現,包括顳角擴大、海馬硬化、皮層萎縮、軟化、蛛網膜囊腫、脈絡裂囊腫等。20例行正電子發射斷層掃描(PET)檢查,13例行腦磁圖(MEG)檢查,部分患者行磁共振波譜分析(MRS)等檢查。
2. 入選標準[3-4]:IVEEG用於患者發作症狀、MRI和sVEEG等無創檢查資料相互矛盾,致癇灶難以定位、定側者。包括(1)患者無典型TLE症狀,sVEEG提示致癇灶位於單側或雙側額顳、顳頂或顳枕,致癇灶難以定位者;(2)MRI提示一側海馬硬化,但sVEEG提示對側顳葉非同步異常放電,無法定側;(3)術前其他定位手段如MEG、PET等檢查與影像學檢查相互矛盾;(4)患者發作形式複雜,不除外多灶性癲癇,難以定位、定側者。
3. 顱內電極選擇與植入方法[1,3,5]:首先根據患者發作形式以及sVEEG、MRI、PET、MEG等無創檢查結果對患者進行評估,初步確定致癇灶範圍,根據評估結果選擇顱內電極植入部位和植入種類,設計手術切口。包括:(1)對難以定位者選擇皮層電極植入(圖1):根據植入部位的不同選擇顱骨鑽孔或骨瓣開顱,植入硬膜下條狀電極或/和柵狀電極。如額-顳皮層電極植入,額-顳前-顳枕交界皮層電極植入等;(2)對難以定側者選用雙側立體定向深部電極植入(圖2):局麻下安裝立體定向頭架(Leksell),MRI掃描,圖像傳輸至手術計劃系統,選用4導深部電極,通過顳中回將深部電極植入海馬或相應靶點部位,在深部電極植入的同時也放置雙側顳葉皮層電極。或單純行雙側顳葉皮層電極植入,但應雙側對稱放置,且使電極前端觸點觸及顳底。
4. 術後腦電圖監測與手術:所有患者術後回病房行長程VEEG監測,採用EMS數字化視頻腦電圖監測系統記錄發作期和發作間期腦電圖,並確定記錄到的發作形式與患者平素髮作是否一致。
結 果
1. 顱內電極類型:60例患者,行額-顳皮層電極植入34例(單側21例,雙側13例),額-顳前-顳枕交界電極植入7例(單側5例,雙側2例),深部電極聯合顳葉皮層電極植入7例, 雙顳皮層電極植入7例(其中聯合單額電極植入3例,聯合單側顳枕交界處電極植入1例),顳前-顳枕交界電極植入3例(單側1例,雙側2例),條狀電極聯合植入柵狀電極植入2例。
2. 手術方式:手術包括前顳葉切除術(切除範圍包括顳前葉、海馬、海馬旁回、溝回、杏仁核)50例,前顳葉切除術聯合額葉致癇灶切除7例,聯合胼胝體切開1例,顳後枕新皮層致癇灶切除+海馬部分切除2例。對術中腦電監測顯示棘波廣泛的患者,必要時可同時行微電流熱灼術。
3. 併發症:本組術後因腦水腫行去骨瓣減壓1例,因顱內出血行血腫清除+去骨瓣減壓1例,無死亡病例。
4. 病理學檢查:60例患者中2例為節細胞膠質瘤,1例曾行伽瑪刀治療顯示為放射性壞死,餘57例患者病理符合顳葉內側癲癇的病理學表現。
討 論
TLE是指起源於顳葉,以簡單部分發作、複雜部分發作或繼發性全身發作為特徵的癲癇,手術是治療TLE的重要方法。典型TLE發作前有先兆如腹部上升感、似曾相識感,或有恐懼、幻嗅等表現,繼之出現行動遲鈍、凝視、口咽自動症、同側的肢體自動症(如摸索)等表現,約半數患者繼發全身強直-陣攣發作,發作後期出現嗜睡、定向障礙等,腦電圖檢查表現為前顳葉棘波或尖波放電,MRI表現為海馬萎縮、顳角擴大,PET表現為發作間期代謝減低,MRS表現為同側神經元標誌物N-己酰天門冬氨酸(NAA)信號減少。但如果以上表現不典型,腦電圖因棘波範圍廣泛不能定位,或合併其他部位癲癇的表現,或存在多種發作形式,則單純依靠非侵襲性檢查方法難以定位,此時需進行侵襲性檢查方法,即顱內電極植入。
由於sVEEG受顱骨、頭皮等傳導介質的影響,只能提供癲癇放電的大概範圍,而IVEEG能夠精確、清楚地記錄到幾乎沒有干擾的發作起始階段的腦電信號[6],因此,IVEEG是判定癲癇起源的重要方法,能明顯提高致癇灶的定位和定側準確性,在致癇灶的定位、定側方面具有重要價值[3, 7-9]。由於不同患者的臨床發作症狀、影像學和電生理結果不同,在應用IVEEG之前,應綜合評估,全面評價,根據不同情況選擇個體化的顱內電極種類和植入方法。
首先,對不能定位的癲癇,尤其是多灶性癲癇,根據I期評估結果選擇電極種類和植入部位。當患者癲癇發作表現為複雜部分性發作的症狀,MRI顳葉未見異常,腦電圖表現為單側額、顳棘波放電時,無創評估方法難以確定額或顳部起源,選擇單側額-顳電極植入,本組21例,方法為顱骨鑽孔,分別向額葉方向和顳前葉方向放置皮層條狀電極;對雙側額顳棘波放電時,選擇雙側的額-顳電極植入,本組13例。同樣,如果腦電圖表現為顳和顳枕棘波放電時,選擇單側顳前-顳枕交界電極植入(本組1例),對雙側顳前-顳枕交界放電時,選擇雙側電極植入(本組2例)。如果棘波範圍廣泛,腦電圖表現為一側額、顳和顳枕交界放電時,則選擇單側額-顳前-顳枕交界電極植入(本組5例),對雙側放電者選擇雙側電極植入(本組2例)。
其次,對不能定側的TLE,如MRI顯示的海馬硬化改變與腦電圖監測結果不一致,或MRI陰性而VEEG顯示雙側顳葉棘波,應進行海馬深部電極植入聯合顳葉皮層電極植入。對起源於單側的顳葉內側癲癇,手術療效好,應首選手術。但是對於雙側獨立起源的顳葉癲癇患者,應根據患者情況慎重決定是否手術以及手術方式 [10-11]。雖然顳葉癲癇放電的傳導多是在同側的額葉與顳葉內部,但有時也可不經過同側皮層,而通過海馬背部聯合直接向對側海馬結構傳導[4,12]。雙側顳葉異常癲癇樣放電是臨床上經常遇到的癲癇類型之一,在確定癲癇起源側別時,為準確起見,多在雙側相同部位對稱安裝相同的深部電極,並配合皮層電極使用,即同時安裝海馬深部電極和顳葉皮層電極。本組深部電極聯合顳葉皮層電極植入7例,另有7例行雙顳皮層電極植入(其中聯合單額電極植入3例,聯合單側顳枕交界處電極植入1例),如僅放置顳葉皮層電極,放置時需儘量將條狀電極置於顳葉底部,包繞顳極卷向顳葉內側,使其靠近海馬旁回處,以記錄海馬旁回區域的放電。關於海馬深部電極的立體定向手術方式有兩種[5],①通過枕部鑽孔沿海馬長軸放置,利於判斷後頭部與海馬的關係,缺點是操作相對複雜;②垂直於顳葉通過顳中回放置,利於判斷前頭部與海馬的關係,手術操作相對簡便,可根據具體情況或術者習慣酌情選用。
在設計顱骨鑽孔的部位時,要兼顧切除性手術的切口進行設計。術後當天或次日行頭顱CT檢查,以確定電極位置,瞭解有無顱內出血。部分患者行頭顱X線正側位平片檢查。
關於本組患者的手術方式,如果為單側起源,或雖為雙側起源但一側為主者,行單側前顳葉切除術,本組50例(83%)。對於TLE合併額葉致癇灶的患者,在行前顳葉切除術的同時,根據術中腦電,聯合行額葉致癇灶切除,本組7例(12%)。本組1例患者,IVEEG顯示雙額雙顳棘波,但以左顳為主,臨床症狀表現為迅速向對側擴散,患者有跌倒發作,在行前顳葉切除術的同時,聯合行胼胝體切開(2%)。本組2例患者,IVEEG顯示為顳後起源,但患者發作時有腹部上升感等顳葉內側發作表現,在行顳枕新皮層癇灶切除的同時,行海馬部分切除(3%)。
顱內電極植入的併發症,Tanriverdi等[13]報道491例患者的感染與顱內出血的幾率為1.8%和0.8%,而Van Gompel等[5]報道198例顱內電極植入,出現5例感染(2.5%),6例血腫(3.0%)。本組患者因腦水腫行去骨瓣減壓1例,因顱內出血行血腫清除+去骨瓣減壓1例,無死亡病例。本組除2例患者的術後病理學檢查為節細胞膠質瘤,1例曾行伽瑪刀治療顯示為放射性壞死外,餘57例病理符合顳葉內側癲癇表現。
總之,當無創性的術前評估方法難以確定致癇灶時,IVEEG就是必須的選擇。但是,IVEEG是一種有創的檢查方法,不能無限性地覆蓋所有腦組織,所以仔細分析無創檢查的資料,選擇正確的顱內電極植入位置是非常重要的。在現有技術條件下,IVEEG仍有其不可替代的應用價值,應用得當可使患者獲益。相信隨著IVEEG實施技術的成熟和檢測方法的不斷進步,其療效會進一步提高。
顱內電極在長距離視頻腦電監測中的應用
發布於 2022-10-20 19:54
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